Program školy růstu krystalů 2008


Pondělí, 1. září 2008
13.30 - 13.40 ZAHÁJENÍ
13.40 - 14.40 Růst polovodičových heterostruktur metodou organokovové  epitaxe  z  plynné fáze
Eduard Hulicius (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Praha)
14.40 - 15.40 Nízkoteplotní plazmová depozice tenkých vrstev
Zdeněk Hubička (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Praha)
15.40 - 16.00 Přestávka
16.00 - 17.00 Příprava diamantových vrstev v mikrovlnném plazmatu
Alexander Kromka, Jiří Potměšil, Milan Vaněček (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Praha)


Úterý, 2. září 2008
08.30 - 09.30 Růst krystalů
Karel Nitsch (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Praha)
09.30 - 10.30 Technologie MBE - epitaxe z molekulárních svazků v polovodičovém výzkumu
Miroslav Cukr (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Praha)
10.30 - 10.50 Přestávka
10.50 - 11.50 Epitaxní růst z kapalné fáze
Dušan Nohavica (Ústav fotoniky a elektroniky, Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Praha)